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Semitron® MPR 1000

Família genérica: Polyamide-imideFornecido por: Mitsubishi Chemical Advanced Materials
Semitron® MPR 1000 shapes possess excellent heat resistance and low rates of erosion in plasma chambers. Due to these characteristics, it is often chosen for vacuum chamber applications within etch, CVD, and ion implant sub segmentations in the semiconductor and electronics industry.
Propriedades gerais

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Status do material
Comercial: Ativo
Documentos
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Technical Datasheet (English)

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Disponibilidade
África & Oriente Médio, América do Norte, América Latina, Ásia/Pacífico, Europa
Usos
Aplicações Elétricas/Eletrônicas
Outras propriedades
Características, Aparência, Densidade / Gravidade específica, Densidade, Absorção de água @ 24 h, Absorção de água 24h/23C, Absorção de água @ Sat., Water Absorption Sat/23C, Módulo de Tensão, Módulo de Tensão, Tensão, Esforço de tensão, Alongamento na Ruptura, Deformação por tensão na ruptura, Módulo de Flexão, Resistência à flexão, Compressive Strength, Compressive Stress, Shear Strength, Impacto Charpy com entalhe, Ensaio de impacto Charpy sem entalhe, Impacto Izod com entalhe, Dureza Rockwell, Dureza Rockwell, DTUL (264 psi) - não recozido, DTUL (1.80 MPa) não recozido, Temperatura de transição vítrea, Temperatura de transição vítrea, CLTE, Fluxo (TMA), Coeficiente de expansão térmica linear, Fluxo, Condutividade térmica, Resistividade superficial, Resistência dieléctrica, Constante dieléctrica, Factor de dissipação, Classificação da chama UL, Propriedades adicionais
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Processamento

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Onde comprar

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